UV—LIGA技术（关于UV—LIGA技术的简介）

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1、UV—LIGA技术使用紫外光源对光刻胶曝光，光源来自汞灯,所用的掩膜板是简单的掩膜板。

2、该工艺分为两个主要的部分:厚胶的深层UV光刻和图形中结构材料的电镀。其主要困难在于稳定、陡壁、高精度的厚胶膜的形成。对于UV-LIGA适用光刻胶的研究,做得较多的是SU-8胶。SU-8胶是一种负性胶，即曝光时，胶中含有的少量光催化剂(PAG)发生化学反应,产生一种强酸，能使SU-8胶发生热交联。SU-8胶具有高的热稳定性、化学稳定性和良好的力学性能，在近紫外光范围内光吸收度低，整个光刻胶层可获得均匀一致的曝光量。因此，将SU-8胶用于UV-LIGA中，可以形成图形结构复杂、深宽比大、侧壁陡峭的微结构。其不足之处是存在张应力，以及烘烤量大时在工艺的后段难以除去。值得指出的是,SU8胶在x光辐照下无膨胀、龟裂等现象，且对X光的灵敏度比PMMA高几百倍，因此有人研究将它用于标准LIGA技术中替代PMMA,以降低光刻过程的成本费用。 

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